사건 발표일 · Applied Materials
Applied Materials가 High-NA EUV용 VeritySEM 20 계측을 공개한다
Applied Materials는 넓어진 landing-energy 범위, AI 기반 recipe 최적화, 첨단 계측에서 최대 20~50% throughput 향상을 내세운 차세대 critical-dimension SEM VeritySEM 20을 공개했습니다.
왜 중요한가
High-NA EUV 양산에는 더 정밀하고 빠른 pattern-control 계측이 필요하며 이 장비는 그 팹 병목을 직접 겨냥합니다.
발표·기사 원문 · Applied Materials ↗